Код отхода по ФККО
3 71 112 51 10 3
воды, содержащие галогенированные растворители, при промывке пьезоэлементов
III класс- Код ФККО
- 37111251103
- Класс опасности
- III
Расшифровка обозначения
- Блок ФККО
- 3
- Код происхождения и состава
- 71 112 51
- Код физической формы
- 10
- Код класса опасности
- 3 — III класс
Подробные характеристики и компонентный состав, когда они найдены в источнике, приведены отдельными блоками.
Структура кодов в официальном ФККО →Где и как образуется
- Производство
- Производство диодов, транзисторов и прочих полупроводниковых приборов, включая светоизлучающие диоды, пьезоэлектрические приборы и их части
- Процесс образования
- Промывка пьезоэлементов
Физическая форма по БДО
Жидкое
Источник дополнительных сведений
Введен Приказом Росприроднадзора от 03.06.2016 № 311
Опубликованная копия Банка данных об отходах, страница 40. Метаданные PDF: изменение 08.05.2019. Дата редакции таблицы не указана; актуальность этих дополнительных сведений не подтверждена.
Посмотреть строку в копии БДО →Как различать похожие записи
Сравните наименования и классы опасности записей из той же группы.
| Код и наименование | Класс |
|---|---|
| 37111251103воды, содержащие галогенированные растворители, при промывке пьезоэлементов | III |
| 37111252103растворители нефтяного происхождения, загрязненные фоторезистом при промывке керамических диэлектриков | III |
Таблицу можно листать по горизонтали.
Связанные записи
отходы механической обработки кварца при изготовлении изделий пьезоэлектроники, содержащие нефтепродукты (содержание нефтепродуктов менее 10 %)37111231394IV классотходы текстильных изделий из хлопчатобумажного волокна, загрязненных мышьяком при ионном легировании в производстве базовых матричных кристаллов37111241602II классрастворители нефтяного происхождения, загрязненные фоторезистом при промывке керамических диэлектриков37111252103III классотходы ацетона, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов37111253102II классотходы смеси диметилформамида и моноэтаноламина, загрязненные фоторезистом при фотолитографии в производстве полупроводниковых приборов37111254102II классдиметилформамид обводненный, загрязненный фоторезистом при обезжиривании и промывке поверхности полупроводниковых пластин и удалении фоторезиста37111255103III класс